弾幕シューティング改・2【7XEVN3J4】 サンプルを弾幕STG仕様に改造したゲーム。当たり判定を小さくし、弾幕数を増やし、ボスの攻撃方法も改造。 そして披弾した時、赤くなっている間にボムを発動するとミスを回避できる「喰らいボム」を実装。

ここからWIKI用に画像貼り付けタイム 自機の攻撃も激しくなった代わりに敵の耐久力も上昇。 周回ごとに強さが上がるシステムに変更。 BOSS1 波のような弾と、頻度が上がった(元ビーム)カッターで攻撃を仕掛けてくる。 周回ごとに特徴である「揺れ」が大きくなり、当てづらくなる。

4周目くらいから段々と弾幕が無慈悲になり、回避不能の攻撃が襲ってくる場合がある。ボムゲー不回避。 BOSS2 壁の様な弾と、正面の砲弾から放つ攻撃を仕掛けてくる。 周回ごとにホーミング回転機能が上がり、大体2周ごとに砲弾から打たれる攻撃が変わる。

周回ごとの難易度上昇の例 弾が早くなる　攻撃のインターバルが短くなる　ホーミングの精度が高くなる　など。 BOSS3 かなり鬼蓄になった。 大量のミサイルとホーミングカッターの追撃をかわしながら壁のような弾幕も避けなければならない。 周回ごとにホーミング精度が高くなるので、4週目まで到達したらボムゲーになってしまうだろう。

俺はインターネットブラウザ使えないからパソコンからミーバースのスクショ撮ってこないと画像が使えないのだ… BOSS4 左右から交互に出る全方位弾幕と、いつも通り濃くなった通常弾幕とホーミングカッター(元ビーム)で攻撃してくる。 周回ごとにホーミングカッターのインターバルが短くなり、かなり回避が難しくなるがBOSS3ほど難しくはない。

キャメラで撮るのは面倒だしねぇ… 諸事情でこの垢はパソコンから使えないからアルバムも使えないし。 BOSS5 あんまし変わってない。 BOSS4のウェーブみたいな弾幕を追加して、カッターの発射も激しくなった。が、それだけ。

BOSS4色々と忘れていたのでWIIU垢から その他にBOSS2の弾幕も追加し、周回ごとに位置の上下が激しくなる。

BOSS6 ラスボス。なんといってもHPが高く、なかなか倒せない上に攻撃が激しい。大量のホーミングカッターと周回ごとに変わる攻撃を仕掛けてくる。